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光学玻璃减薄工艺制作

日期:2015-11-21  来源:广州钢化玻璃厂家
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    光学玻璃正达具备化学蚀刻及物理抛光两种玻璃减薄技术及产能,可依据客户不同的产品与需求,调配应用,以达到最佳质量及效率的产出。



    制程简介 化学蚀刻:

    化学蚀刻为最具效率的薄化制程,将玻璃浸入蚀刻液中,可在短时间内将玻璃厚度薄化。

    正达的薄化技术可将5.3代(1,200mm x 1,300mm)尺寸的TFT LCD Cell基板,由厚度1.4mm减薄至0.4mm。由于TFT LCD Cell基板包括TFT Array及彩色滤光片两片玻璃,因此单一片玻璃厚度均少于0.2mm。

    用于单片玻璃的薄化,则可将6代(1,850mm x 1,500mm)尺寸玻璃减薄至0.4mm。


制程简介



    物理抛光:

    物理抛光制程主要用于优化玻璃表面质量,磨平玻璃表面细微缺陷,使玻璃达到符合光学级要求的平坦度。

由于抛光技术应用广泛,包括大中小尺寸TFT LCD面板、触控感测玻璃、保护玻璃,甚至半导体光罩等,均可能需要使用到抛光制程。


物理抛光


    应用范围:TFT LCD Cell、彩色滤光片触控感测玻璃保护玻璃半导体光罩

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